氧化硅拋光液

GRISH氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點

氧化硅拋光液

我公司氧化硅拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,如:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦,精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工??缮a不同粒度(10~150 nm)的產品滿足用戶需求。根據pH值的不同可分為酸性拋光液和堿性拋光液。


產品規格

堿性型號(pH:9.8±0.5)SOQ-2ASOQ-4ASOQ-6ASOQ-8ASOQ-10ASOQ-12D
酸性型號(pH:2.8±0.5)ASOQ-2AASOQ-4AASOQ-6AASOQ-8AASOQ-10AASOQ-12D
粒徑(nm)10~3030~5050~7070~9090~110110~130
外觀乳白色或半透明液體
比重1.15±0.05
組成成份含量(w%)
SiO215~30
Na2O≤0.3
重金屬雜質≤50 ppb


產品的特點:

  • 高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的(可以生產150 nm)

  • 粒度可控,根據不同需要,可生產不同粒度的產品(10-150 nm)

  • 高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對電子類產品的沾污

  • 高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工


應用領域

  • 光通訊行業



電話
產品中心
應用行業
樣品索取
178彩票网